石英を通して半導体をサポートする株式会社石本商會
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芦屋花倶楽部
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2008.1.
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フォトマスク用ブランクスは、サブストレートの表面に、クロム系金属被膜を均質に
形成したものです。特殊成膜品も製造いたします。成膜材質と光学仕様をご指定ください。
マスクの端面仕上について特にご指定なさるときは、面粗さ、カット角度などをご
明示ください。
  製品 寸法
直径 オリフラ 板厚
5"ウェハー 無水合成1 125mm 42.5mm 0.625mm
6"ウェハー 無水合成2 150mm 47.5mm 0.625mm
無水合成3 150mm 47.5mm 0.80mm
8"ウェハー 無水合成4 200mm 0.80mm 0.80mm
公差 直径公差±0.1mm オリフラ公差±1.0mm 板厚公差±0.05mm
オプティカル用に合成研磨基板もあります。
<丸型サブストレート例> 
丸型サブストレートもカスタマイズして製造しております。

サイズ 厚さ
125 t1.00
125 t2.00
125 t3.00
公差±0.3mm 公差±0.05mm

<初期特性> 材質 合成石英(有水合成グレード)
  平行度 20μm以下
  表面粗度 Ra≦Å
  平面度 λ(P−P)以下



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