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2008.1.
フォトマスク用ブランクスは、サブストレートの表面に、クロム系金属被膜を均質に
形成したものです。特殊成膜品も製造いたします。成膜材質と光学仕様をご指定ください。
マスクの端面仕上について特にご指定なさるときは、面粗さ、カット角度などをご
明示ください。
製品
寸法
直径
オリフラ
板厚
5"ウェハー
無水合成1
125mm
42.5mm
0.625mm
6"ウェハー
無水合成2
150mm
47.5mm
0.625mm
無水合成3
150mm
47.5mm
0.80mm
8"ウェハー
無水合成4
200mm
0.80mm
0.80mm
公差
直径公差±0.1mm
オリフラ公差±1.0mm
板厚公差±0.05mm
オプティカル用に合成研磨基板もあります。
<丸型サブストレート例>
※
丸型サブストレートもカスタマイズして製造
しております。
サイズ
厚さ
125
t1.00
125
t2.00
125
t3.00
公差±0.3mm
公差±0.05mm
<初期特性>
材質
合成石英(有水合成グレード)
平行度
20μm以下
表面粗度
Ra≦Å
平面度
λ(P−P)以下
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